点缺陷模型（PDM）是什么意思？
点缺陷模型（PDM）是指模型支持在助理电场中的点缺陷的移动。它计划解释金属表面上被动胶片的扩展行为。
PDM可以是描述通过目的缺陷的质量和电荷通量的被动膜的膨胀和分解，由于模型的预测受到无源膜的半导体，缺陷的阻挡层的目的缺陷。相关自然法律。
点缺陷模型（PDM）
广告
腐蚀百科解释点缺陷模型(PDM)
点缺陷模型(PDM)指出，金属的溶解是由于熔剂离子到膜/溶液界面、金属空穴或金属/膜边缘的金属孔引起的。这些金属孔往往会浸入金属的大部分，因此消失。如果这个孔的装配速率大于它们的淹没速率，孔通过形成孔洞在金属表面编译。由于空穴增大到一定的尺寸，钝化膜塌陷到空穴中，导致国内加速腐蚀，从而形成凹坑。
PDM已经经历了3代，初级生成模型(PDM-I)是在80年代早期发展起来的，该模型假设钝化膜是一个有缺陷的化学化合物层，包含在金属/薄膜和薄膜/溶液界面上产生和消除的离子空位和化学元素空位。
代代II模型（PDM-II）掺入薄膜的双层结构，其包含与金属和外层相邻的缺陷或二元复合阻挡层，其通过在透射阳离子与物种中的透射阳离子的反应而形成的外层将金属间质性引入缺陷，公认的阻挡层溶解，并认识到对分类反应的要求然而，它们是否是晶格保守或非保守的，然而假设无源电流的管理单独留在阻挡层内。
生成III模型（PDM-III）延长了猜测对于那些情况（例如，阀金属），因此外层电阻使其控制界面的电阻并因此控制腐蚀速率。
广告
分享这个术语
