离子气相沉积(IVD)是什么意思?
离子气相沉积(IVD)是一种物理气相沉积方法,用于将纯铝涂层施加到各种基材和部件,主要用于腐蚀保护。该方法在真空容器中进行,其以各种尺寸可用。
该过程创造了一个干净,安全和环保的整理系统。它是镉电镀过程的合适替代方案,这些方法是有毒和引起污染。
由于IVD铝是镉电镀的替代品,所以最大的IVD铝使用用于腐蚀性的黑色合金零件。IVD铝涂装工艺还有资格用于铜基,不锈钢和钛基合金。
离子气相沉积(IVD)是一种物理气相沉积方法,用于将纯铝涂层施加到各种基材和部件,主要用于腐蚀保护。该方法在真空容器中进行,其以各种尺寸可用。
该过程创造了一个干净,安全和环保的整理系统。它是镉电镀过程的合适替代方案,这些方法是有毒和引起污染。
由于IVD铝是镉电镀的替代品,所以最大的IVD铝使用用于腐蚀性的黑色合金零件。IVD铝涂装工艺还有资格用于铜基,不锈钢和钛基合金。
铝的离子气相沉积(IVD)是真空电镀过程,其在几乎任何金属上沉积纯铝以防止腐蚀。该过程最初是开发为钢制钢镀镉的替代品。这种涂层在镉上的重要优势是施加无毒和安全。在该过程中,蒸发的电镀材料是电离的并形成粘附涂层。它适用于各种基材,例如铝,钢和钛。
IVD提供出色的涂层覆盖和均匀性。它不仅限于视线覆盖范围,可以生产厚度厚度厚度。无论厚度如何,IVD铝涂层都不会积聚或耗尽锋利的边缘。
IVD的好处包括:
IVD过程依次与常规电镀操作相似,需要准备,加工和整理操作,以便正确处理部件。
IVD钢上的钢铝提供出色的牺牲耐腐蚀性,而不会损害高强度钢合金的强度水平。这些材料中没有氢脆和应力腐蚀裂缝导致成本较低,更高的强度水平。