离子气相沉积（IVD）

离子气相沉积（IVD）是什么意思？

离子气相沉积（IVD）是一种物理气相沉积方法，用于将纯铝涂层施加到各种基材和部件，主要用于腐蚀保护。该方法在真空容器中进行，其以各种尺寸可用。

该过程创造了一个干净，安全和环保的整理系统。它是镉电镀过程的合适替代方案，这些方法是有毒和引起污染。

由于IVD铝是镉电镀的替代品，所以最大的IVD铝使用用于腐蚀性的黑色合金零件。IVD铝涂装工艺还有资格用于铜基，不锈钢和钛基合金。

CORROSIONPIA解释离子气相沉积（IVD）

铝的离子气相沉积（IVD）是真空电镀过程，其在几乎任何金属上沉积纯铝以防止腐蚀。该过程最初是开发为钢制钢镀镉的替代品。这种涂层在镉上的重要优势是施加无毒和安全。在该过程中，蒸发的电镀材料是电离的并形成粘附涂层。它适用于各种基材，例如铝，钢和钛。

IVD提供出色的涂层覆盖和均匀性。它不仅限于视线覆盖范围，可以生产厚度厚度厚度。无论厚度如何，IVD铝涂层都不会积聚或耗尽锋利的边缘。

IVD的好处包括：

• 增加耐腐蚀性
• 提高有用的工作温度
• 提供与铝结构的电流兼容性
• 适用于各种基材
• 废物处理环境安全

IVD过程依次与常规电镀操作相似，需要准备，加工和整理操作，以便正确处理部件。

IVD钢上的钢铝提供出色的牺牲耐腐蚀性，而不会损害高强度钢合金的强度水平。这些材料中没有氢脆和应力腐蚀裂缝导致成本较低，更高的强度水平。