离子植入是什么意思？
离子植入是一种材料工程过程，通过该材料工程过程，材料的离子在电场中加速并撞到另一个固体材料中。该方法可以改善材料的性质，包括硬度和耐磨性，耐化学侵蚀和减少摩擦。
离子植入类似于涂覆方法，但它不涉及在表面上添加层。它最常用于半导体器件制造和金属整理工业中。
这个过程也称为给药。
离子植入
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CORROSIOSPEDIA解释了离子植入
离子注入设备通常需要离子源，其中产生所需元件的离子，加速器，其中离子静电地加速到高能量（加速离子到约103米/秒的速度），以及目标室，其中离子冲击目标，这是待植入的材料。因此，离子注入是颗粒辐射的特殊情况。虽然该过程不需要直接加热工件，但大多数离子束工艺在300°至400°F（150°C和200°C）之间工作。
离子渗透的典型深度是微米的一部分。为了将该表面区域恢复回到有序的结晶状态并允许植入离子在晶体结构中进入取代位点，必须进行靶金属，这通常涉及将目标金属的加热加热到升高的温度，适当的时间长度。
植入的明显优点是它可以在相对低的温度下进行，这意味着可以植入掺杂层而不会扰乱先前的漫射区域。这降低了横向扩散的风险。
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同义词
给药
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