离子电镀

离子电镀是什么意思？

离子镀是物质涂层，通常是化合物或金属的方法沉积在靶表面区域上。在这种类型的涂层中使用的材料通过电弧电离并蒸发，然后以高速朝向靶。

该过程通常在真空室或惰性气体设置内进行。

离子镀也称为物理气相沉积（PVD）。

CORROSIPDIA解释离子电镀

通常在电镀之前进行离子镀层的材料，以便彻底清洁它们并消除异物。这也在要完成电镀的环境中进行，一种称为溅射的过程。电镀和溅射可以是两个相同的过程，但是对于前者，靶通常与其他材料的离子轰炸，如氩气，可以剥离所有异物，而不是促进键。

当准备靶并进行涂层应用时，离子电镀的过程开始。涂层材料在电弧电流的帮助下经历蒸发，这是利用高电流和低电压的高流量。这样做是为了使由于相似的电荷来电彼此彼此进行电离，以及蒸发用于涂覆的材料。产生的蒸汽被推动到靶上并在相反的电荷相反的电荷中递送，以是用于电离涂层的磁体。该方法可以使离子蒸发成为可能，并且导致涂层与表面的粘附性。

离子电镀施加技术可以以几种方式改变。一种方式是在闭合设置内引入其他类型的汽化离子和各种气体。还可以将一种材料与另一种材料混合，以形成粘附到表面靶标的不同化合物。结合不同的材料还允许各种各样的涂料。

通过离子电镀施加的涂层通常是偶数和超薄，使其成为具有不均匀或不规则形状的材料的理想选择。最重要的是，离子镀层施加的涂层具有令人印象深刻的硬度，高耐久性和耐腐蚀性能力。