磁控溅射是什么意思?
磁控溅射是一种物理气相沉积涂层技术,用于将诸如金属,塑料和陶瓷等材料,塑料和陶瓷的薄膜沉积在其他表面或基材上。
该方法在真空或低压环境中进行,其中磁场用于将高能离子集中在涂料上以便喷射原子。磁控溅射广泛用于科学和商业应用,如提高钢和镁合金的耐腐蚀性。
磁控溅射是一种物理气相沉积涂层技术,用于将诸如金属,塑料和陶瓷等材料,塑料和陶瓷的薄膜沉积在其他表面或基材上。
该方法在真空或低压环境中进行,其中磁场用于将高能离子集中在涂料上以便喷射原子。磁控溅射广泛用于科学和商业应用,如提高钢和镁合金的耐腐蚀性。
磁控溅射是一种功能强大,柔韧而与材料无关的涂布过程,可用于涂覆具有多种材料的大多数常见表面。高能量原子可以渗透到基板中以产生均匀和紧密的图案,可提高表面的耐久性和性能。
该技术广泛应用于商业,工业,科学和研究行业。典型的涂层包括:
典型的应用包括:
电能用于在真空中产生高能等离子体离子。磁控管提供磁场,其将离子集中在目标(阴极)上。随着离子撞击靶,排放中性原子,分子和二次电子(溅射)。喷射的原子朝向基板移动,在那里它们冷凝以形成涂层材料的薄膜。二次电子与腔室中的惰性气体碰撞并有助于维持等离子体。
在常规磁控溅射方法中,等离子体浓缩在靶标以上,并且可能导致离子轰击并影响基板上的相应膜。这在不平衡的磁控溅射方法中被消除,其中磁场以散布等离子体的方式布置。这有助于在基板附近保持低离子浓度。