磁控溅射

磁控溅射是什么意思？

磁控溅射是一种物理气相沉积涂层技术，用于将诸如金属，塑料和陶瓷等材料，塑料和陶瓷的薄膜沉积在其他表面或基材上。

该方法在真空或低压环境中进行，其中磁场用于将高能离子集中在涂料上以便喷射原子。磁控溅射广泛用于科学和商业应用，如提高钢和镁合金的耐腐蚀性。

Corrosionpedia解释了磁控溅射

磁控溅射是一种功能强大，柔韧而与材料无关的涂布过程，可用于涂覆具有多种材料的大多数常见表面。高能量原子可以渗透到基板中以产生均匀和紧密的图案，可提高表面的耐久性和性能。

该技术广泛应用于商业，工业，科学和研究行业。典型的涂层包括：

• 耐磨涂层
• 低摩擦涂层
• 装饰涂料
• 耐腐蚀涂层
• 具有特定光学或电气性能的涂层
• 医用涂料
• 其他功能涂料

典型的应用包括：

• 显示
• 工具
• 建筑玻璃
• 光伏材料
• 超导体材料
• 汽车和航空航天工业的镁合金

电能用于在真空中产生高能等离子体离子。磁控管提供磁场，其将离子集中在目标（阴极）上。随着离子撞击靶，排放中性原子，分子和二次电子（溅射）。喷射的原子朝向基板移动，在那里它们冷凝以形成涂层材料的薄膜。二次电子与腔室中的惰性气体碰撞并有助于维持等离子体。

在常规磁控溅射方法中，等离子体浓缩在靶标以上，并且可能导致离子轰击并影响基板上的相应膜。这在不平衡的磁控溅射方法中被消除，其中磁场以散布等离子体的方式布置。这有助于在基板附近保持低离子浓度。