真空沉积

真空沉积是什么意思?

真空沉积是指在固体表面一个原子一个原子或一个分子一个分子地沉积材料层的一系列过程。

该技术涉及在高真空的清洁环境中沉积所需的膜厚度，即使在纳米范围内。它广泛用于工业规模的无机材料的薄膜制备。该方法通常用于将耐腐蚀涂层施加到基材上。

腐蚀百科解释真空沉积

真空沉积是一种技术，用于在真空条件下将材料层沉积在基材上。可能存在多层不同的材料，其厚度可以在小于1nm至几微米的范围内。

该技术对于生产涂层特别有用，因为它具有大大降低的环境影响和高通用性。这种技术的优点是：

• 用于产生蒸汽的许多器件仅在真空中工作。
• 大部分材料将在常规气氛中氧化。
• 真空沉积过程生态非常干净。
• 在大气压下，平均自由蒸气分子非常短（小于毫米），因此它们无法到达基材。

这种技术可以细分为两个主要家庭：

• 物理气相沉积(PVD) -形成薄膜的冷凝蒸汽是通过物理方法(加热，溅射)获得的。
• CVD（化学气相沉积） - 蒸汽通过对合适的气态物质的解离而获得。

这两种类别中的每一个包括许多不同的技术。在PVD技术中是：

• 电子枪蒸发
• 阴极弧蒸发
• 溅射
• 分子束外延

在CVD技术中是：

• 热（常规）CVD
• 等离子体激活(PECVD) "

真空环境有以下用途:

• 降低颗粒密度
• 提供低压等离子体环境
• 提供一种用于控制气体和蒸气组成的装置
• 为进入处理室的质量流量控制提供了一种手段

真空沉积一般用于提高硬度、耐磨性和抗氧化性。因此，这种涂料应用范围很广，例如:

• 电气传导
• 半导体器件
• 太阳能电池
• 光学薄膜
• 反光涂料
• 节能与生成
• 磁性薄膜
• 扩散的障碍
• 腐蚀保护
• 汽车应用