化学气相沉积(CVD)是什么意思?
化学气相沉积(CVD)是由于气相化学反应物的反应在衬底上形成非挥发性固体膜的过程。CVD是在CVD反应器中,在1925°F(1051°C)左右的高温下进行的气氛控制过程。
CVD用于创建各种应用的涂层,如耐磨、耐腐蚀、高温保护、侵蚀保护及其组合。
化学气相沉积(CVD)是由于气相化学反应物的反应在衬底上形成非挥发性固体膜的过程。CVD是在CVD反应器中,在1925°F(1051°C)左右的高温下进行的气氛控制过程。
CVD用于创建各种应用的涂层,如耐磨、耐腐蚀、高温保护、侵蚀保护及其组合。
基本的CVD过程包括以下步骤:
化学气相沉积涂层是细晶,不透水,有高纯度,比使用传统陶瓷制造工艺生产的类似材料更硬。
这是一个非常通用的过程,可以用于产品可能难以与其他方法涂层。它通常用于保护电子元件,如集成电路,防止腐蚀。