化学气相沉积

化学气相沉积（CVD）是什么意思？

化学气相沉积(CVD)是由于气相化学反应物的反应在衬底上形成非挥发性固体膜的过程。CVD是在CVD反应器中，在1925°F(1051°C)左右的高温下进行的气氛控制过程。

CVD用于创建各种应用的涂层，如耐磨、耐腐蚀、高温保护、侵蚀保护及其组合。

腐蚀百科解释化学气相沉积(CVD)

基本的CVD过程包括以下步骤:

1. 将反应气体和稀释剂惰性气体的混合物引入反应室中。
2. 气体向基板移动。
3. 反应物吸附在基材的表面上。
4. 反应物与基材进行化学反应以形成薄膜。
5. 反应的气态副产物被解吸并从反应室中排出。

化学气相沉积涂层是细晶，不透水，有高纯度，比使用传统陶瓷制造工艺生产的类似材料更硬。

这是一个非常通用的过程，可以用于产品可能难以与其他方法涂层。它通常用于保护电子元件，如集成电路，防止腐蚀。